Caractérisation des couches minces : Analyse optique et par rayons X

Comprendre la structure interne et la composition chimique des matériaux est la pierre angulaire de l'ingénierie moderne des semi-conducteurs. Ce cours présente les méthodes essentielles utilisées pour inspecter les couches minces sans les endommager, garantissant des résultats de fabrication et de recherche de haute qualité. Vous acquerrez une compréhension claire de la manière dont les signaux optiques et à rayons X sont utilisés pour déterminer l'épaisseur du film, la structure cristalline et la pureté du matériau. Ce que vous apprendrez : - Comprendre la physique fondamentale des interactions de la lumière et des rayons X avec la matière solide - Apprendre comment l'ellipsométrie et la réflectométrie sont utilisées pour mesurer l'épaisseur des couches minces - Appliquer les techniques de diffraction des rayons X pour analyser la qualité cristalline et les paramètres du réseau - Maîtriser les bases de l'analyse compositionnelle pour identifier les impuretés des matériaux - Explorer les flux de travail de caractérisation automatisés modernes et les techniques d'analyse basées sur les données - S'entraîner à interpréter les données de caractérisation pour des scénarios de fabrication de semi-conducteurs du monde réel Le cours commence par une introduction à la terminologie clé et à la physique des ondes avant de vous guider à travers les méthodologies de caractérisation spécifiques utilisées dans l'industrie aujourd'hui. Ce programme textuel est conçu pour les débutants en ingénierie, en physique ou en science des matériaux, sans expérience préalable en caractérisation requise. Commencez dès aujourd'hui votre voyage dans le monde précis de l'analyse des matériaux.